首页 » 新闻 » 国内展讯 » 正文

ZESTRON亮相2015 NEPCON日本展览会

发布日期:2015-01-29

分享到微信朋友圈

打开微信。点击 “ 发现 ” ,
使用 “ 扫一扫 ” 即可将网页分享至朋友圈。

全球领先的电子制造业精密清洗产品提供商ZESTRON将在2015 NEPCON日本展览会上(展位号:ブースNo.東5-28)向观众隆重介绍水基型MPC®(Micro Phase Cleaning)微相清洗技术,MPC®技术广泛应用于电子元器件、功率模块和钢网清洗工艺中。
 
MPC®技术是全世界领先的水基清洗技术,该技术结合了溶剂型清洗剂和表面活性剂清洗剂的优点,突破了传统清洗液的限制,,提供卓越清洗效果。
 
基于MPC®技术开发的水基型清洗剂具有以下特点:
 
低VOC值,满足国际标准
 
无闪点,安全环保
 
节约成本
 
在全球范围内已经有2000多家客户正在使用MPC®技术。
 
MPC®清洗技术能够去除包括助焊剂、焊锡膏、SMT贴片胶在内的多种污染物残留,是溶剂型清洗剂最理想的替代品,基于MPC®技术开发的清洗液能够应用于多种在线和无线清洗设备中,使用超声波、喷流、喷淋作为物理激励方式。
 
扫描展团网微信二维码,关注展会、会议节庆、展销会、会展服务,关注"展团网"微信公众号即可 展团网
 
 
网站首页 | 行业分站 | 城市分站 | 参展意向登记 | 展会宝 | 版权隐私 | 使用协议 | 联系方式 | 关于我们 | 网站地图 | 排名推广 | 广告服务 | 积分换礼 | 网站留言 | RSS订阅
桂ICP备11003182号
统一社会信用代码: 91450100697643558Q